电子束卷绕真空镀膜技术在上世纪80年代时主要用于优质录像带和数字录音带的磁性材料镀膜。由于电子束镀膜技术高度的工艺灵活性与可靠性,采用电子束技术几乎任何材料都可以高速蒸发(比溅射约高100倍),在各种卷绕镀膜中,电子束卷绕真空镀膜具有最高的镀膜速度。除了典型的镀铝外,还可镀各种高熔点和高蒸发温度的材料,包括Cr、Co、Ni、Ta、W、Au、Ag、Ti、合金NiCr、SiO2、Al2O3、ZrO2、MgO、TiO2、ZnS等。对于反应蒸发(如Al+O2 → Al2O3),电子束技术提供了能够保证均匀的蒸发速率。国外在上世纪90年代研究开发各种透明阻隔真空卷绕镀膜技术时,总结出采用电子束镀膜技术蒸